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中 반도체 장비 쇼크…韓도 노광 '소부장' 국산화해야

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송재민 기자I 2026.08.07 05:00:03

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[전문가와 함께쓰는 스페셜리포트]
안진호 한양대 연구부총장
글로벌 노광장비 독점 균열 낸 중국
노광장비 완제품 개발은 기술장벽 높아
검사·측정장비·핵심부품부터 공략해야
레지스트·마스크·펠리클도 유망 분야
단순 모방 넘어 독자 기술 상용화 지원

[안진호 한양대 연구부총장] 네덜란드 ASML의 독무대로 여겨졌던 반도체 노광장비 시장에서 중국이 균열을 냈다. 중국이 자체 개발한 이머전(침지) 방식 심자외선(DUV) 노광장비 생산에 착수하면서다. DUV는 범용 D램과 일부 첨단 공정에 쓰이는 장비다. 최첨단 AI 반도체와 고대역폭메모리(HBM) 생산에 필수적인 극자외선(EUV) 노광장비와는 격이 다르다. 중국이 곧바로 EUV 경쟁력을 확보했다고 보기는 어렵다는 의미다. 그러나 이번 중국 DUV 충격은 첨단 노광장비를 전적으로 해외에 의존하는 한국에는 적지 않은 경고를 던진다.

안진호 한양대 연구부총장
안진호 한양대 연구부총장
EUV는 DUV를 단순히 발전시킨 장비가 아니다. 빛의 파장이 193나노미터(㎚)에서 13.5㎚로 짧아지면서 투과형 렌즈 대신 다층 반사경을 사용하고, 장비 전체를 고(高)진공 상태에서 운용해야 한다. 광원과 마스크, 펠리클(포토마스크를 보호하는 얇은 막) 등 핵심 기술도 대부분 새롭게 개발해야 한다.

미국의 수출 규제는 역설적으로 중국의 자체 장비 개발을 재촉했다. 성능이 다소 부족하더라도 중신궈지(SMIC), 창신메모리(CXMT) 등 자국 반도체 기업이 장비를 직접 시험하고 문제를 개선할 수 있는 내수 생태계가 형성되고 있다. 중국의 성과를 단순한 선전으로 치부하기 어려운 이유다. 올해 5대, 내년 20대 생산 목표 역시 시행착오를 축적하며 기술을 끌어올리는 과정이라는 점에서 의미가 있다.

그렇다고 한국이 당장 ASML과 같은 노광장비 완제품 개발에 뛰어들어야 한다는 뜻은 아니다. 노광장비는 대표적인 초고난도 장비다. 이미 경쟁력을 확보한 분야를 중심으로 핵심부품부터 공략하고, 노광 공정을 뒷받침하는 주변 생태계로 국산화 범위를 넓혀가는 전략이 현실적이다.

대표적인 분야가 검사·측정장비다. 세계 최대 반도체 검사·계측 장비 기업인 미국 KLA는 미세공정의 결함 검사와 계측 기술을 바탕으로 독보적인 경쟁력을 확보했다. 우리도 독자적인 아이디어와 기술을 앞세운다면 새로운 시장을 개척할 수 있다.

포토레지스트, 포토마스크와 펠리클 등 노광 소재도 경쟁력을 키울 수 있는 분야다. 다만 해외 제품을 그대로 따라 만드는 수준으로는 공급망 안정 이상의 경쟁력을 확보하기 어렵다. 새로운 소재와 측정기술을 꾸준히 상용화할 수 있도록 정부의 장기적인 지원이 필요하다. 노광장비 국산화는 완제품 한 대를 그대로 만드는 것이 아니라, 우리가 강점을 가진 핵심 기술을 축적해 글로벌 노광 생태계의 한 축을 담당하는 전략이어야 한다.

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